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高純銅顆粒_6N5超純銅 蒂姆新材料 北京銅粒 Cu

來(lái)源：張慧慧|

發(fā)表時(shí)間：2020-11-30

點(diǎn)擊：6915

高純銅顆粒_6N5超純銅 蒂姆新材料 北京銅粒 Cu

蒂姆（北京）新材料科技有限公司可提供多種成分、多種尺寸、多種工藝金屬氧化物靶材。
常用參數(shù)：
靶材純度：99.9%、99.95%、99.99%
制備工藝：熱等靜壓、常溫?zé)Y(jié)等
靶材形態(tài)：平面靶、多弧靶、臺(tái)階靶、異形靶
圓靶尺寸：φ25.4*3mm、φ50*3mm、φ50.8*4mm、φ60*3mm、φ76.2*3mm、φ80*4mm、φ101.6*5mm、φ152.4*6mm 尺寸可定制
方靶尺寸：50*50*3mm、100*100*4mm、300*300*5mm 尺寸可定制
綁定服務(wù)：陶瓷靶材亦可提供銅背靶銦焊綁定服務(wù)，提高陶瓷靶材導(dǎo)電導(dǎo)熱性，提高使用效率
包裝方式：真空包裝
化學(xué)式 品名 純度（%） 致密度 品牌 適用設(shè)備
SiO2 二氧化硅 靶材 4N ＞80% 蒂姆新材料 磁控濺射設(shè)備、離子濺射儀
HfO2 二氧化鉿 靶材 4N ＞80% 蒂姆新材料 磁控濺射設(shè)備、離子濺射儀
TiO2 二氧化鈦 靶材 4N ＞80% 蒂姆新材料 磁控濺射設(shè)備、離子濺射儀
ZrO2 二氧化鋯 靶材 4N ＞80% 蒂姆新材料 磁控濺射設(shè)備、離子濺射儀
WO3 三氧化鎢 靶材 3N ＞80% 蒂姆新材料 磁控濺射設(shè)備、離子濺射儀
Nb2O5 五氧化二鈮 靶材 4N ＞80% 蒂姆新材料 磁控濺射設(shè)備、離子濺射儀
Ta2O5 五氧化二鉭 靶材 4N ＞80% 蒂姆新材料 磁控濺射設(shè)備、離子濺射儀
MoO3 三氧化鉬 靶材 3N ＞80% 蒂姆新材料 磁控濺射設(shè)備、離子濺射儀
Sc2O3 三氧化二鈧 靶材 4N ＞80% 蒂姆新材料 磁控濺射設(shè)備、離子濺射儀
Al2O3 氧化鋁 靶材 3N ＞80% 蒂姆新材料 磁控濺射設(shè)備、離子濺射儀
ZnO 氧化鋅 靶材 4N ＞80% 蒂姆新材料 磁控濺射設(shè)備、離子濺射儀
MgO 氧化鎂 靶材 4N ＞80% 蒂姆新材料 磁控濺射設(shè)備、離子濺射儀
Bi2O3 氧化鉍 靶材 4N ＞80% 蒂姆新材料 磁控濺射設(shè)備、離子濺射儀
Cr2O3 氧化鉻 靶材 4N ＞80% 蒂姆新材料 磁控濺射設(shè)備、離子濺射儀
NiO 氧化鎳 靶材 4N ＞80% 蒂姆新材料 磁控濺射設(shè)備、離子濺射儀
V2O5 氧化釩 靶材 4N ＞80% 蒂姆新材料 磁控濺射設(shè)備、離子濺射儀
Y2O3 氧化釔 靶材 4N ＞80% 蒂姆新材料 磁控濺射設(shè)備、離子濺射儀
AZO 氧化鋅鋁 靶材 4N ＞80% 蒂姆新材料 磁控濺射設(shè)備、離子濺射儀
ITO 氧化銦錫 靶材 4N ＞80% 蒂姆新材料 磁控濺射設(shè)備、離子濺射儀
CeO2 二氧化鈰 靶材 4N ＞80% 蒂姆新材料 磁控濺射設(shè)備、離子濺射儀
Er2O3 氧化鉺 靶材 4N ＞80% 蒂姆新材料 磁控濺射設(shè)備、離子濺射儀
Sm2O3 氧化釤 靶材 4N ＞80% 蒂姆新材料 磁控濺射設(shè)備、離子濺射儀
Nd2O3 氧化釹 靶材 4N ＞80% 蒂姆新材料 磁控濺射設(shè)備、離子濺射儀
Fe3O4 氧化鐵 靶材 4N ＞80% 蒂姆新材料 磁控濺射設(shè)備、離子濺射儀

高純銅顆粒_6N5超純銅 蒂姆新材料 北京銅粒 Cu

高純銅顆粒_6N5超純銅 蒂姆新材料 北京銅粒 Cu

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