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高性能離子源系列產(chǎn)品
編號(hào)：
名稱： 高性能離子源系列產(chǎn)品
領(lǐng)域：
成果形式：
投資額： 萬(wàn)
案例數(shù)：
技術(shù)階段： 概念階段
合作方式：

方案詳述


l陽(yáng)極層離子源AIS-M：

1、用于磁性材料濺射；

2、束流大，均勻性>95% ；

3、長(zhǎng)壽命、無(wú)污染；

l陽(yáng)極層離子源AIS-C：

1、適用于刻蝕；

2、束流大，均勻性>95% ；

3、極少陰極濺射；

l陽(yáng)極層離子源AIS-D：

1、適用于氣相沉積；

2、束流大，均勻性>95% ；

3、長(zhǎng)壽命、無(wú)污染；

l陽(yáng)極層離子源AIS-H：

1、采用HiPIMS放電；

2、離化率高，均勻性>95% ；

3、適用于輔助反應(yīng)沉積；

技術(shù)優(yōu)勢(shì)

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