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編號(hào)： A041403

名稱： 可穿戴設(shè)備的新材料

領(lǐng)域： 材料科學(xué),機(jī)械電子

成果形式：

投資額： 面議萬(wàn)

案例數(shù)：

技術(shù)階段： 研發(fā)階段

合作方式：

背景介紹：

排列的多壁碳納米管最常用氣相沉積法生長(zhǎng)。這種方法具有嚴(yán)重的缺陷，因?yàn)榧{米管只能由于發(fā)生生長(zhǎng)的高溫而在某些材料上生長(zhǎng)。目前的技術(shù)不允許在任何類型的基板上生長(zhǎng)圖案化的多層碳納米管。雖然已經(jīng)提出了其他方法，但是這些技術(shù)僅改善機(jī)械接觸，不降低觸點(diǎn)的電阻和熱阻。電阻和熱阻是基于垂直幾何形狀的應(yīng)用的關(guān)鍵參數(shù)，例如冷場(chǎng)發(fā)射器，用于化學(xué)和生物傳感器的納米電極陣列和垂直納米晶體管。目前迫切需要一種用于傳送具有某種圖案的定向碳納米管陣列的方法和裝置，同時(shí)允許改善的熱和電特性。

新技術(shù)特點(diǎn)：

本發(fā)明在高電場(chǎng)下、高真空中條件下，傳送排列的多壁碳納米管的陣列和圖案化陣列(從一個(gè)表面到另一個(gè)表面)。在高真空中的物質(zhì)傳送發(fā)生在宏觀距離上，并且表面上的后續(xù)沉積仍然保持圖案和沉積，同時(shí)仍然保持圖案和取向，無(wú)需使用掩模和預(yù)先圖案化的基板。這允許制造更加尖銳和精確的圖案或在陽(yáng)極上產(chǎn)生新的圖案，從而獲得清晰的圖案。

獨(dú)特優(yōu)勢(shì)：
?改進(jìn)的性能-允許更好的機(jī)械接觸，并且還降低觸點(diǎn)的電阻和熱阻。
?較低的溫度-可以在比氣相沉積法更低的溫度下進(jìn)行。
?可以產(chǎn)生精準(zhǔn)精確圖案-保留碳納米管的圖案和方向，無(wú)需使用掩模和預(yù)先圖案化的基板。
廣泛的用途：
?冷場(chǎng)發(fā)射器
?化學(xué)傳感器
?生物傳感器
?垂直納米晶體管

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